euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响小于5 nm的芯片只能由EUV。

国产光刻机现状技术水平逐步提高，其中“光刻机国家重大科技专项”最具代表性国产化率逐年提高，但与国际巨头还存在一定差距。

3微米，接近国际主流 水平 而那时， 光刻机 巨头ASML还没诞生 我国 的 光刻机 目前能做的只有90nm制程，而荷兰的ASML 最新EUV工艺 光刻机 可。

成功自主研发出用于芯片生产的光刻机，并在自身的基因测序业务中得到了成功3星辉光电星瞳科技华微电子等国内一些企业，也在加大研发投入，努力追赶国际领先水平，同时在市场上拓展业务，争取更多市场份额。

随着ASML光刻机的运抵，国内光刻机企业也面临着更大的压力和竞争目前，国内光刻机企业数量较多，但主要研发领域仍集中在相对成熟的65nm45nm技术产品上，且研发能力和技术水平与ASML等国际领先企业有较大差距ASML光刻机。

不仅要达到美国光源和德国镜头的高水平，还要有很多精密的仪器光刻机任重道远这些精密仪器的背后，也需要更多的人才研究技术时间投入和技术积累，也需要大量的资金我相信中国会克服这个困难，不再受其他国家的限制。