JEOL目前资料显示jbx9300fs型号是最先进的在电子束光刻系统EBL的主要参与者中，Raith在2019年的排名中保持第一，其次是ADVANTESTJEOLElionix和NanoBeam2019年，全球电子束光刻系统EBL收入市场份额的85%来自前5。

替代光刻机的技术有纳米压印光刻NIL电子束光刻机EBL自组装光刻1纳米压印光刻NIL先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达。

半导体设备系列光刻机是半导体工业中的“皇冠”1原理 光刻是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束的作用下发生化学变化，通过后续曝光显影刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术激。

实验室设备是进行各种科研工作的关键设备，勇于创造特定的实验条件进行数据采集和处理等常见的实验室设备包括高分辨率电子显微镜电子束光刻机物理模拟实验设备等六生物医疗设备 生物医疗设备是广泛应用于生命科学和医学。