中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片。

因为中国需要光刻机来制造CPU，而CPU的制造离不开光刻机我国在光刻机真正发展起来是在 2002 年上海微电子装备成立以后，目前性能最好的是 90nm 光刻机，与国外还存在着很大的差距。

目前，全球最有名的三大EDA软件公司，分别是美国的SynopsysCadence 和西门子旗下的 Mentor Graphics ，三大EDA软件巨头几乎垄断了全球 90%以上的EDA市场份额所以核心技术掌握在国外人的手里，一直用此来噶中国的韭菜，我打字都能感觉被噶的痛第三就是光刻机技术的现状，芯片制造需要极其精细的雕刻。

一直以来我国都是劳动力大国，是生产大国而不是科技大国，在科技水平方面有着很大的不足，但是近些年来，我国各方各界都重视到了这一点，开始加大力度在科技水平上的投入与发展现如今，在世界上有很多科技研究产物都有我国的身影所在 那么对于芯片这种产品而言我国的研发水平在国际上又是怎样的呢。

最新消息显示，上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，即使这一技术的交付对比荷兰ASML公司全球最大的半导体设备制造商之一，光刻机制造领域全球领先有着近20年不足，但对于国内光刻机制造来讲，已经要跨出了很大的一步 对于上海微电子来说，其28nm光刻机的顺利推出，将打破国外厂商的对于IC。