1、很多人都以为，中国研发EUV光刻机，追赶的目标是荷兰阿斯麦，可实际却是在挑战整个西方最尖端的技术，因为阿斯麦EUV光刻机的。

2、目前，中国所掌握的EUVv l光刻机制造出的纳米量级比较小关于更小的七纳米，14纳米这些都比较难以突破，所以说才容易被美国所。

3、所以中国制造出最顶级的光刻机只是时间问题而已”他还补充道“中国的国力是荷兰的17倍，他们可以用远超行业标准的薪资吸纳。

4、研究所时代2016年前后，国内媒体突然充斥着大量关于中国制造强国地位的质疑世界最大的圆珠笔生产国竟然无法自主制造圆珠笔的。

5、中国要靠自主研发，生产光刻机了！说不定未来的某一天，各大新闻头条上“疯传”的不再是我国再一次突破EUV关键技术，而是中国。

6、他认为**下一代光刻机一定由中国先制造**更重要的是，下一代光刻机不是从EUV入手了，而是瞄准Xray光刻机也就是我们所说。

7、光刻机物理定律在全球都是通用的，所以中国制造出最顶级的光刻机，只是时间问题而已该工程师补充道中国的国力是荷兰的17倍。