1、该公司的光刻机来自荷兰阿斯麦尔公司中芯国际采购了阿斯麦尔的深紫外线DUV光刻机，这些光刻机能够支持28纳米及以上制程的芯片生产，中芯国际也曾购买过阿斯麦尔的14纳米光刻机更先进的极紫外光刻机EUV由于技术；光刻机是一种用于微电子和半导体工艺中的关键设备它主要用于将电子器件的图形图案转移到半导体材料或薄膜上，以制造集成电路IC和其他微纳米器件光刻机的工作原理是将光源通过光学系统聚焦成一束细小的光束，然后通过。

2、duv光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米euv激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为135纳米3光路系统不同 duv主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水；光刻机是一种可以制造芯片的机器光刻机是一种在半导体制造过程中使用的高精度设备，用于将光敏剂覆盖在硅片或其他基板上，并通过光源和光学系统投射光线形成图案，从而进行微米级或纳米级的图案转移光刻技术是半导体工艺中；duv主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm光刻机简介 光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

3、光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机；极紫光刻机EUV，135纳米波长光源，深紫光刻机DUV，193纳米波长光源；光刻机是一种用于制造微型电子设备的机器它利用光刻技术，将芯片设计图案转移到硅片表面上，制造微型集成电路光电器件和MEMS等微型器件2 光刻机的工作原理 光刻机的工作原理是利用紫外线光学系统将芯片设计图案投射到；极紫外光刻是一种使用极紫外波长的下一代光刻技术，其波长为135纳米，预计将于2020年得到广泛应用几乎所有的光学材料对135nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜。

4、DUV光刻机用的是193nm深紫外光，一般可用来雕刻130nm到22nm的芯片，而中国在这方面有黑 科技 ，理论上能将其极致推到7nm，而EUV使用的是13，5nm的极紫外光，可以雕刻22nm到2nm的芯片，EUV只有阿斯麦尔能造不久前，阿。