1、我们中国买走的却全都是单台价格比EUV低不少的DUV，就是说，虽然按购买台数也是排名第一，却是在购买DUV光刻机的国家和地区中排名第一EUV光刻机全被其他国家和地区的厂商给买走了包括台积电三星英特尔海力士；目前，全球领先的光刻机技术几乎被荷兰ASML公司所垄断随着市场对芯片需求的不断增长，ASML公司也因此获得了巨大的利润ASML公司是光刻机领域的霸主，掌握着许多先进的光刻机生产技术其生产的EUV光刻机是生产7nm工艺以下。

2、光刻机的高科技迷宫ASML的独步江湖与挑战在全球科技舞台上，光刻机被誉为制造芯片王国的“金钥匙”中国虽历经数十年的研究，但在这个领域，荷兰ASML公司却独占鳌头，特别是其EUV光刻机，价值高达八亿，且供不应求美；1 EUV光刻机利用接近或接触式光刻技术，通过将掩模板上的图案无限靠近至几乎接触，实现复制2 直写式光刻技术则通过聚焦光束至一点，并通过移动工件台或镜头扫描的方式来加工任意图形3 由于其高效的光亮比和无损伤的；3 在中国的半导体产业中，极紫外光EUV光刻机是中国半导体设备制造领域亟需突破的技术短板4 光刻机，也被称为掩模对准光刻机掩模对准曝光机或光刻系统，是一种精密的曝光设备5 目前业界普遍使用的是掩模对准。

3、目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向那么duv光刻机和euv光刻机区别是是什么呢。

4、euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工投影式光刻因其高效率无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术光刻机Mask。

5、第四代为步进式投影式光刻机，采用193nm波长的ArF氟化氩准分子激光光源，可实现制程推进到了65130nm第五代为EUV光刻机，选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源3市场 目前全球光刻机市场被荷兰的ASML，日本的。