官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首。

光刻机28nm能造出几nm芯片

1、我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端。

2、目前最先进的国产光刻机来自上海微电子，只能做到90nm制程，距离28nm以下的先进制程还很远光刻机的国产化是复杂的系统工程，其中光源是核心组件之一，其波长范围决定了光刻机的工艺能力，这正是此次拿到哈勃投资的科益虹源所。

3、相信在国内企业的共同努力下，未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的而到了14nm这个级别，至少用在手机和通信设备上是没有问题的，可以保证华为的主营业务存续，剩下的则仍然需要慢慢追赶至少光刻机。

4、smee光刻机28纳米据媒体报道，上海微电子装备SMEE股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志。

5、28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有147532，甚至是1nm但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用。

光刻机28nm是什么意思

现今高端芯片都需要EUV光刻机，而目前世界上也仅有荷兰ASML一家可提供可供量产用的EUV光刻机，其余的光刻机仅仅作为实验用所以这才是标准的垄断，完全受制于人04 坎坷之路努力崛起之必然 2020年中国芯片的进口额。

90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm。

中国芯片在离子注入机刻蚀机光刻胶这三大芯片制造环节技术中，都取得了相应的突破进展有研究报告显示，中国将在近两年内实现28nm芯片的自给自足有能力应对中低端成熟工艺芯片的自主研发，生产国产芯片正在逐步打破西方。