光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版；曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺。

光刻机的精度需要达到何种等级?

不仅要达到美国光源和德国镜头的高水平，还要有很多精密的仪器光刻机任重道远这些精密仪器的背后，也需要更多的人才研究技术时间投入和技术积累，也需要大量的资金我相信中国会克服这个困难，不再受其他国家的限制。

涉及系统集成精密光学精密运动精密物料传输高精度微环境控制等多项先进技术目前国内相关的机构也在重点突破光刻机技术，比如中科院光电所已经研究出光刻分辨力达22nm的技术，结合双重曝光技术可以实现10nm芯片的制造但。

因为光刻机制作要求有更高的更精密的技术，更关键的是光刻机还是在不断的发展进步中的02我们国家最好的光刻机可以制造14nm的芯片我们国际目前能够制作出来最精细的芯片是14nm的，并且这还是借助了美国的相关技术。

最精密光刻机

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类1高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有12亿美金一台的。