摘要光刻机是一种高精密芯片制造设备，如果想要自主生产芯片，光刻机是必要的那么光刻机是谁发明的光刻机是法国人Nicephoreniepce尼埃普斯发明的，现已成为半导体生产制造的主要生产设备光刻机制造需要哪些技术下面来。

光刻机难造是因为技术不达标，比原子弹还稀有，全世界仅荷兰和日本两个国家掌握技术芯片作为新时代的核心技术之一，其生产必须离不开光刻机，而全球仅有荷兰和日本两个国家掌握了光刻机的制造技术光刻机是制造芯片的关。

光刻机作为全球最顶尖的大型光电设备，集合了很多国家的顶尖技术光刻机核心零部件的镜头和光源都是来源于欧美国家，其中镜头来德国蔡司，光源美国的cymer另外湾有4家企业是ASML的主要供应商之一荷兰阿斯麦尔光刻机前17大。

所以只有少数国家能够掌握光刻机制造技术，其中包括荷兰ASML公司日本尼康公司等国际领先企业光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯片的制造，因此需要达到极高的精度要求例如ASML公司的最新款光刻机能够实现高达13。