2mm芯片估计在2024年开始商用所谓的新型垂直纳米环栅晶体管只是说明在制作芯片的材料和设计上已经突破了，但是如果想要生产出2nm制程的芯片，我们需要能够达到2nm制程分辨率的光刻机和蚀刻机，只有这样才能够让电路从设计从图纸。

第一层是氧化硅，第二层是氮化硅，最后一层是光刻胶再将设计完成的包含数十亿个电路元件的芯片蓝图制作成掩膜，掩膜可以理解为一种特殊的投影底片，包含了芯片设计蓝图，下一步就是将蓝图转印到晶圆上这一步对光刻机。