我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端。

根据官方报道，科益虹源是国家02重大专项“准分子激光技术”成果的产业化载体，开展浸没光刻光源的关键技术攻关以及产品开发，进入国际上最高端的DUV光刻光源产品系列科益虹源攻克的ArF浸没式激光器技术，可以把国产光刻机一举。

用来制造国防军事领域芯片的大尺寸中端光刻机，中国一直有，而且早就有 大家一定要搞明白这件事，和目前很多需要进口的零配件一样，中国不造，是基于市场考量，不是技术无法攻关很多中国没掌握的技术不是没能力，而是出。

光刻机有三大核心部件，EUV光源双工件台光学镜头EUV光刻机零部件高达十万个，涉及面广，28纳米以下制程的EUV光刻机至少需要3至10的攻关突破衡量指标就是数值孔径NA，一般透镜数值孔径越大，收光能力越大。

我们要攻克芯片，制造光刻机只是个时间和成本问题过去一段时间是我们的企业图快速发展，减低成本增加利润，因此上有许多技术含量较高的另部件如芯片造不如买划算，才造成美国一断供就会造成被动但只要下决心攻关，我们。

对于光刻机，相信大家都不陌生，它是芯片制造过程中必不可少的设备，没有光刻机就无法生产出任何芯片，这是整个半导体行业的普遍认知之前，大多数人都没有听说过光刻机，但随着华为芯片事件的影响，让国内意识到了光刻机。

而在此时，大后方传来坏消息，被寄予厚望的武汉弘芯，最近也爆出项目停摆资金链断裂，甚至光刻机刚一入厂即遭遇抵押的种种问题这让中国芯片的未来发展之路充满变数为什么那么庞大的系统性北斗工程我国都可以建好，而一。

所以中国从头搞一套难度很大，同时从现在7纳米，到22年3纳米制成，进步又很快，跟上世界的步伐是困难和需要多年攻关和积累技术各不相同，所以不能将研发导弹的思路用在延发手机芯片和生产高端光刻机机上面。

看来你还是不懂高精尖光刻机为啥不卖你荷兰它做的是系统整合，里面各种尖端设备来自美国等各个国家，挖荷兰工程师卵用没有 用两三倍工资将他们挖过来是可以的，但你要明白以下几点一荷兰 ASML公司的光刻机，其。