1、1965年，我国的第1台光刻机是从外国进口的，直到现在为止全国只有两个国家拥有光刻机的高科技手段特别是荷兰的光刻机技术在全球是遥遥领先的，但由于荷兰受到美国的影响，并不愿意把光刻机的相关技术和设备出口给中国。

2、目前可以实现7nm 制程的只有台积电和三星两家，三星是从一开始就使用EUV光刻机来实现，而台积电则是从DUV开始实现，然后再转向EUV 也就是说，目前7nm 制程工艺使用DUV 和 EUV 都是可以实现的，下面就DUV 和 EUV 两种设备的实现方法分别。

3、同样正是SMEE推出90nm制程的光刻机后，ASML对中芯国际的7nm光刻机订单放行中国无法购买光刻机的原因1只有投资了ASML的，才能获得优先供货权，而英特尔三星台积电拥有ASML很大的股份ASML的高端光刻机产量有限。

4、如果说自主技术，其实我国的光刻机还停留在上海微电子SMEE的90nm水平，而事实上它却代表着国内最先进的光刻机水准而光刻机巨头ASML目前的水平是7nm EUV，事实上它也正朝着更先进的极紫外光刻机5nm工艺水平迈进了。

5、我国在半导体领域当中，也时不时会有好消息传出，目前我国成功地进口了一台光刻机，虽然这一台光刻机并不是原本定制的7nm紫外光刻机，而是一台14nm常规设备，但正是这样一台常规设备，在一定程度上也可以缓解我国 科技。

6、我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。

7、光刻机不是人多就能造出来的它需要的透镜的技术太苛刻，而且可能人工合成的透镜无法达到要求日本有世界上唯一一块巨型天然透镜，是从非洲发现并购买回来的唯一性是不可代替的，多少人也没办法弄出来日本的顶级光刻。

8、最高端的光刻机一台能卖一亿美元，并且还得排队购买，即便了下单一般21个月后才能供货 全球高端光刻机来自荷兰ASML，中文叫阿斯麦，这家全球最顶级的光刻机制造商目前占全球高端高光刻机90%以上的市场份额，也就是说ASML公司处于绝对。