目前，国内仅有中科院的龙芯和总参的申威拥有自主架构，前者用于北斗导航，后者用于神威超级计算机，民用领域基本是空白制造芯片的三大设备光刻机蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏，其7纳米设备已入围台积电名单。

光刻机生产厂家是ASML自1984年以来，ASML的光刻解决方案便是半导体行业的创新领导者，在如此小的规模上实现了巨大的飞跃硬件与软件相结合，为在硅上批量生产图案提供了一种整体方法在世界16个国家和地区有60阿斯麦公司的。

导致中国光刻机的起步晚资金投入少人才也相对不足，这些都是需要解决的问题除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。

6光刻机 又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀等工序在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形。

5月22日报道称，光刻机又称曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，其作用是扫描曝光芯片晶圆，刻蚀集成电路制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握因此光刻机的价格昂贵，通常在3000万至5。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘激光刻蚀等工序光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握光刻机，其实就是一种将。

为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展2事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持3ASML的成功是因为其技术的。

1荷兰ASML公司 全称 Advanced Semiconductor Material Lithographyasml，目前该全称已经不作为公司标识使用asml，公司的注册标识为ASML Holding NVasml，中文名称为阿斯麦中国大陆艾司摩尔中国台湾 2光刻机Mask Aligner 又。

但是，国内设备与国外先进设备相比仍有较大差距，主要表现在两方面一是有一定竞争力的产品在领先制程上的差距二是部分产品完全没有竞争能力或尚未布局，比如国内光刻机落后许多代际，仅能达到90nm的光刻要求，国内探针台也处于研发阶段，尚未。