1、中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努。

2、光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备集团股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。

3、长春光机所2023年科技进步奖申报名单金春水王丽萍王辉张海涛于杰喻波周烽郭本银姚舜马冬梅李春邓文渊谢耀刘钰苗亮从具体的获奖名单来看，中国科学院长春光机所有多项光刻光学技术及应用项目获。

4、安芯光刻机由中国科学院上海微系统与信息技术研究所研发，其最小线宽达到7纳米，具有高精度高分辨率高通量等特点该光刻机已经在半导体芯片等领域得到广泛应用此外，安芯光刻机的7纳米最小线宽创下了国际上同类产品的。

5、为此，中国国家科学院电子研究所与清华复旦同济等21所高校展开合作，夜以继日地搞科研，决心做出自己国家的光刻机有了光刻机，中国人就能制造属于自己的芯片，不用再大量的从外面购买我国国产首台中端光刻机投产。

6、提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的。

7、首先需要明确的是，华为在这一次的投资当中所占据的股份并不是非常多，大概只有476左右而这家公司之所以特殊，能够引起大家的高度关注，最主要的原因就是因为其背后最大的股东是我们的中科院而且他在光刻机领域在国内的。

8、第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

9、光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究。

10、该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动手动指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度。