以EUV光刻机为例，它需要几吨重的镜头，并且要求镜头无杂质，具备纳米级别的分辨率任何镜头的缺陷都是不可接受的，而且镜头的曲率非常薄，这对制造工艺提出了极高的要求此外，光源的稳定性也是制造过程中的一个难点光；光源技术 另外，光刻机中的光源也是一项难以攻克的技术难关，对于深紫外光DUV刻，使用的光源波长是193nm，这是光刻机中的一个技术分水岭，芯片发展曾经在193纳米光源停滞了十多年的时间，后来浸没技术缩短波长原理是在。

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我们中国在今年成为了ASML公司DUV光刻机的最大客户按购买金额排名第一，在ASML公司62台的销售总额中占比34%，比去年的占比22%高出了12个百分点，比今年排名第二的韩国高出5个百分点，比排名倒数第二和倒数第一的日本。

最后，在知乎上都是个人立场，至于asml公司，但凡多了解一点就知道它一直寻求与中国合作，川普上台前差点儿把euv光刻机运到中国去什么搜集情报，这种想象还真的搞成了敌矛盾至于本人，多少年前就说过光刻机就是一个工艺。

相关介绍光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司；根据不同的检测控制对象，可以分为以下几种a颗粒控片Particle MC用于芯片上微小颗粒的监控，使用前其颗粒数应小于10颗b卡盘颗粒控片Chuck Particle MC测试光刻机上的卡盘平坦度的专用芯片，其平坦度要求非常高c焦距控。

ASML公司是全球最大的光刻机生产企业，也是技术最先进的光刻机研发企业，不仅拥有28纳米DUV光刻机，而且还拥有先进的EUV光刻机但是由于一些原因，现在ASML也就是卖给中国一些DUV光刻机，不卖给中国企业EUV光刻机DUV光刻。