投影式光刻机又分为扫描式和步进式，扫描式采用 11 光学镜头，由于扫描投影分辨率不高， 因此 80 年代中期后就逐步被步进投影光；3步进扫描光刻机融合了扫描式和步进重复式的优势，光源通过一个狭缝照射在掩膜版上，掩膜版沿着一个方向移动时，等效于对掩。

例如步进扫描式光刻机 26mm x 8mm 的静态曝光场相对较小，降低了物镜系统制造的难度但其工件台与掩模台反向运动的动态扫。

扫描式光刻机曝光硅片动不动

来源Tom聊芯片制作者芯片智造UV光刻机一般可以分为5种，即接触式光刻机，接近式光刻机，扫描投影式光刻机，步进投影式。

光刻机的研究开始于1955年的美国贝尔实验室先后经历了接触式光刻机扫描投影式光刻机，步进式扫描投影光刻机和现在最先进的。

扫描式光刻机是不是更高端

2台为ArF扫描式光刻机由此可见，ASML已经付诸于行动，开始加速向中企出货更多光刻机毕竟大陆的光刻机需求潜力非常大，即。

步进式扫描投影光刻机结合了步进式Stepper和扫描式Scanner的特点，使得在曝光过程中，掩模版上的图案不仅能够逐个“。