光刻胶在光的作用下发生化学或物理变化，形成图案的显影图像接下来，通过化学腐蚀或蚀刻等工艺步骤，将光刻胶图案转移到半导体材料上，并最终形成微电子器件的结构光刻机具有高精度高分辨率和高产能的特点，能够实现微米。

用媒体报道的话来说就是，一年卖出60台光刻机中国光刻机巨头崛起，独占80%中国市场这家巨头名为上海微电子，是国内仅有的一家光刻机制造商，目前已经牢牢占据了中国市场，即便是ASML也无法动摇上海微电子在国内的地位。

如今只能仰望ASML的尼康和佳能虽然曾经在光刻机上实力强劲，但是高研发费用也让这两家公司犯愁而不得不选择放弃光刻机高端研发 而ASML在研发费用上另辟蹊径，仗着自己无可取代的90%市场份额占有率，降低光刻机的产能来吸引各方投资 使。

那90nm的光刻机在2021年的今天，还能做什么？我们可以看看下面这个图，5590nm仅剩9%的产能，逻辑芯片比如CIS，驱动芯片控制芯片等eFlash和DAO电源类分立器件芯片，结构最为简单为主也就是说基本上不会是西方卡脖子的类别。

这是我国拥有自主产权的光刻机可以满足军用需求和卫星导航光刻机是一个高端领域我国起步比较晚，因长期没有属于自己的光刻机产品，不得不依赖西方进口让我国在军事领域受到别人的制约半导体严重限制了我国军事和航天。

由于尼康和佳能在高端光刻机市场毫无优势，所以两家公司已经在光刻机研发方面投入越来越小佳能已经放弃了光刻机的生产，尼康也只是保留了小部分的产能可能在不久的未来，两家公司的中端光刻机也没有任何市场了低端光刻。

光刻机同半导体制造精度直接相关，决定了芯片的最先进制程想要突破10nm芯片制程节点，光源波长为135nm的EUV光刻机必不可缺这也是为何，三星台积电每年都要争抢ASML的EUV光刻机产能目前，全球仅ASML一家可生产EUV光。

此时的美国政府将EUV技术视为推动本国半导体产业发展的核心技术，并不太希望外国企业参与其中，但是此时美国本土光刻机企业已是“扶不起的阿斗”最后，ASML同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，以满足所有美国本土的产能。