目前，我国芯片产业正面临两大难题，若是这两个难点能够攻克，自给率70%的目标将不是难题在接受证券日报采访时，千门资产投研总监宣继游表示，制程和光刻机部分工业软件部分，是当前制约我国半导体芯片发展的两大因素。

1原因一荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助2原因二ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手。

比如我们手机所说的8纳米7纳米5纳米，这就是它的集中程度，数字越小代表它的精度越高，性能越强我们现在迫切的需要一台高端的光刻机来帮助我们国产芯片摆脱这种受制于人的情况，因为我们细致的观察我们国产的手机，发现两。

值得一提的是，High NA EUV光刻机可谓是炙手可热的产品，其目标是将制程推进到1nm以下，而传言中该光刻机成本甚至超过一架飞机，大约3亿美元 为什么英特尔执意要把数字放到埃米级别？从英特尔CEO的话中我们可以窥探一二，帕特·基辛格说。

制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限最新消息显示，上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，即使这一技术的交付对比荷兰ASML公司全球最大的半导体设备制造商之一，光刻机制造领域全球领先有着近20年不足。