也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA80010W光刻机，这是一台国产浸没式DUV光刻机，可实现单次曝光28nm节点所以网络里一直流传着这个；DUV光刻机实现7nm制程理论上193nm光刻机是可以实现7nm节点工艺制程的，但是会使得需要的光罩数量非常多，工艺复杂，量产难度大应当指出，即使导入EUV，也并不是所有流程均由EUV承担，主要是应用在MOS器件关键层，其它对。

科益虹源攻克的ArF浸没式激光器技术，可以把国产光刻机一举推向28nm以下的先进制程这是中国半导体产业发展的 历史 性节点采用ArF光源的浸没式DUV光刻机是目前全球使用最广泛的光刻机，可以完成45nm10nm制程的芯片制造；采访中罗杰·达森称其实ASML公司也一直比较关注目前美国在半导体领域的出口禁令，毕竟出口禁令对全球半导体行业带来的影响还是比较大的，不过经过公司内部的深入研究发现，美国方面并没有对荷兰的DUV光刻机设备加以限制， 也就是。

ASML占全球光刻机市场份额的60%以上，也是全球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片所需EUV光刻机的厂商华尔街日报称，由于来自美国的干预，ASML无法向中国交付任何EUV光刻机中国是ASML所产DUV光刻机的重要市场之一根据。

DUV光刻机概念股

1、这类光刻机，去年11月5日，在上海世博会上，阿斯麦尔副总裁沈波就表示过，除了EUV光刻机之外，包括DUV光刻机在内的所有类型光刻机都能实现对我国的自由出货我国国内，上海微电子目前在国产DUV光刻机上面的研发似乎还挺。

2、全球能够制造光刻机的国家有三个，一共四家公司可以制造光刻机，荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子其中唯一能制造高端euv光刻机的只有一家就是荷兰阿斯麦尔，其他三家是duv光刻机专利限制只是制约的一方面。

3、荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个135。

duv光刻机中国能造吗

就像2023年第一季度，ASML向大陆交付了23台光刻机，超过了其他市场地区的出货量由此可见，ASML对大陆市场重视程度非常高由于EUV光刻机不能出货的缘故，所以ASML向大陆交付的光刻机都是DUV光刻机及其它型号的设备虽然。

主要是不能进口高端极紫外光euv光刻机，而中低端duv光刻机可以进口及自己生产最高端的光刻机现在不能进口了，主要是美国不让荷兰出口光刻机给中国最先造光刻机的是日本的尼康，就是很多专业摄影师用的相机机牌子。