美军并不会害怕高度科技化的对手，他们只害怕高度政治化的对手这一点，从他们的文宣里面暴露的很充分在芯片制造的环节，比如台积电和中芯，它们技术上的差距最大的是不是就是光刻机假如中芯能拿到和台积电一样的光刻；省级重点建设项目，斥资1280亿，CEO为原台积电CTO中芯国际独立董事蒋尚义，拥有国内唯一一台生产14nm以下芯片的ASML光刻机 比起哗然，或许我们更应该思考国产化替代大趋势下，相关厂商们如何能在诸多“诱惑”之下，坚定走自主研发路线。

不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以；而工艺制程上 的推测是28nm的碳基芯片就可以达到7nm的硅基芯片的水平，足足拉近了两代技术，而国产成熟制程可以达到14nm也就是可以不使用极紫外光光刻机也能达到5nm的级别，论制造消耗也将降低很大的成本支出石墨烯材料。

导致中国光刻机的起步晚资金投入少人才也相对不足，这些都是需要解决的问题除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。

国内14nm光刻机公司

根据专家推测，中国现在光刻机技术和世界顶级水平依然有20年的差距，可以说差距还是比较大的，但是国家已经启动相关的研究工作，相信在所有人的努力下，终有一天会打破技术封锁研发光刻机有哪几点难度第一思想难度在。

这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目目前主要致力于大规模工业生产的中。

国产自主研发的14nm光刻机以及9nm光刻机

1、截止2020年10月，最先进的是14纳米纳米科技现在已经包括纳米生物学纳米电子学纳米材料学纳米机械学纳米化学等学科从包括微电子等在内的微米科技到纳米科技，人类正越来越向微观世界深入，人们认识改造微观世界的。

2、手机上只有CPU芯片需要光刻机能造手机芯片的公司有不止10家包括我国的中芯国际 都号称14nm量产，只不过良品率太低，一直没见用在手机上能做最先进5nm制程的EUV光刻机只有荷兰ASML公司这一家这家公司只能造光。

3、这不，自从中国科技企业被断供了芯片后，我国就开始加速光刻机的发展，大力投资光刻机领域，很快就将14nm光刻机制造了出来，这下子就连美国都没有反应过来后来，似乎美国意识到，中国的发展速度实在太快了，就算自己再。