当前中国有能力自己生产光刻机，上海微电子装备有限公司通过十七年的“卧薪尝胆”，持续攻关，基本掌握了高端光刻机的集成技术，并部分掌握了核心部件的制造技术，实现了“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想光刻机是一个；SMEE已经量产的光刻机中，性能最好的SSA60020工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主2位于我国上海的SMEE；全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔Intel三星Samsung海力士Hynix台积电TSMC中芯国际SMIC等位于中国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成；光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备集团股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。

例如光刻机中的光学镜头由德国Carl Zeiss提供，光源由美国的Cymer提供，不可能任何部件都实现自行研发国内并非没有光刻机的生产企业，比较有名的就是上海微电子装备集团股份有限公司SMEE这家公司成立于2002年3月；该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为G25370mm × 470mm和G45730mm × 920mm的AMOLED显示屏量产线硅片边缘曝光机系列芯片级封装工艺应用SMEE开发的硅片；上海一家生产光刻机的公司实质是军方的不能说太多，你谅解下参考资料老表在此处工作。

上海微电子装备有限公司 公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化基地等多个国家级基地公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发生产。