无锡影速半导体 科技 有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果，这些公式只是在低端市场占比的，高端的就是中科院光电技术研究所的技术，现在光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片，它这个22纳米。

如果我们国产的光刻机能够达到外国的那种精度，或者说比他们稍微差一点的芯片自己都能造那么对国外的依赖就小了很多了，这带来的是一个行业历史性的变革如果说我们能够完全自主的去研究芯片去制造芯片，那我们现在手机的成本。