7nm根据查询哔哩哔哩显示，国内对高科技的人力和财力投资大大增加，国产光刻机与荷兰ASML的差距也变得越来越小，哈工大的频频突破，让中国自研京华激光的光刻机目标直指7nm工艺所以京华激光的光刻机是7nm；国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘。

中国有自己的光刻机 由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径 在光电所；华为有没有研制自己的光刻机，可以参考中国目前唯一的光刻机玩家SMEE的研发历程上海微电子公司背靠国家，且拥有国内顶尖的科研机构予以支持，不缺钱不缺人的前提几十年只专注与研发光刻机这一件事下也仅仅只有90nm光刻样机可以投产使用。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

中国自研的光刻机叫什么

1、SMEE光刻机研发成功的意义上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。

2、中国光刻机历程 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光。

3、28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

中国自研光刻机遭批判

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

华为有光刻机华为作为中国科技巨头，不仅在手机通信等领域取得了不俗的成就，还在芯片研发方面默默发力华为曝光了一款神秘的自研光刻机，这款华为自研光刻机采用了最先进的技术，可实现更精细的制程工艺，并且具有高精度。