制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限最新消息显示，上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，即使这一技术的交付对比荷兰ASML公司全球最大的半导体设备制造商之一，光刻机制造领域全球领先有着近20年不足；我国的上海微电子有限公司研发和生产光刻机，但是差距有点儿大，华为目前没有研制自己的光刻机下文具体说一说 1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻。

2003年10月份，ASML和台积电研发出首台浸没式光刻设备TWINSCAN XT1150i2004年，阿斯麦的浸没式光刻机改进成熟同年，尼康宣布了157nm的干式光刻机和电子束投射产品样机 但是，一面是改进成熟的132nm波长新技术，一面是157nm波长；目前在制造光刻机领域中，荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%除了荷兰以外，日本和中国也可以制造出光刻机日本代表的企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子虽然我国目前只能。

上海微电子光刻机年底交付

1、这就导致我们国家先进光刻机的研发进度远远落后于ASML，我们国家自己研发的光刻机目前最好的是上海微电子的90nm制程的光刻机，跟ASML差距很大，虽然这条道路很艰难，但是如果我们做不出来，美国就会一直卡我们的脖子，我们自己。

2、生产光刻机上市公司ABM上海微电子装备有限公司佳能尼康1ABM ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷SanJose主要经营光罩对准曝光机光刻机，单独曝光系统，光强仪探针公司的主要市场在美国和亚洲ABM总部。

3、80%的市场，这样以后我们的芯片大部分就能自己生产了，就不用在从其他国家进口了。

上海微电子首台光刻机交付

在半导体设备材料领域，上海微电子28nm immersion式光刻机预计将于2021年交付 而 上海新阳则在光刻胶领域实现突破，上海新升的半导体硅片也已经达到业界领先的300mm 中国电子 科技 集团的高能离子注入机也取得令人欣喜的。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机海力士也是ASML的股东之一第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备。