其分辨率是38nm阿斯麦DUV光刻机2000i型号的分辨率和阿斯麦DUV光刻机1980Di型号是相同的，都是支持到38nm的最大分辨率它们都采用了相同的193nm的深紫光源，具有相同的光学及量产指标DUV光刻机的分辨率是指在曝光过程中；光刻机发展至今，已经历了5代产品的迭代在1985年之前，第一代光刻机光源以436nm的gline汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程之后出现了365nm的iline汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350500nm第三代为。

由于更先进的EUV光刻设备早在2019年被禁运，此次被限制出口的2050i，2100i基本上可以视作当前最先进的一批DUV光刻机型号，广；ASML NXT2050i和NXT2100i光刻机部分许可证被吊销，对少数中国客户产生影响编译 程茜编辑 Panken1月2日早间，全球光刻。

这意味着这16台光刻机或是NXT2050i型号，甚至是更先进的NXT2100i光刻机这些高端DUV光刻机，对于中国的芯片制造，有着非；重试直接说一下实际情况，6月份进了2台2050i，7月份5台2000i，8月份的数据还没拿到，但可以肯定一定会有2000以上的型号9。

一台斜导轨数控车床，型号为HTC2050i，加工过程中突发故障，数控系统报警信息为NO2121液压电机电源控制开关跳闸NO2123液压电机未启动NO2130卡盘压力低经查电气控制柜内一单相直流24V控制用断路器跳闸，若强行将该；此前该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款，分别是TWINSCAN NXT1980Di2000i和2050i，这些型号或多或少地。

025umi线光刻机是指使用i线水银灯波长365nm光源的半导体光刻机，采用的光波长为365纳米，它可用于制造存储器处理器和控制器等晶圆，i线光刻机线宽能到025um，最小是015um；最高端的光刻机一台能卖一亿美元，并且还得排队购买，即便了下单一般21个月后才能供货 全球高端光刻机来自荷兰ASML，中文叫阿斯麦，这家全球最顶级的光刻机制造商目前占全球高端高光刻机90%以上的市场份额，也就是说ASML公司处于绝对。

2000i光刻机是指ASML公司生产的一款光刻曝光机型号光刻机是用于制造集成电路的关键设备，它可以将芯片设计图案转移到硅片上关于quot2000iquot的具体规格和技术参数，需要具体参考ASML公司发布的官方资料而关于quot多少纳米quot的问题；7纳米根据中国科技网查询显示，2050i光刻机是阿斯麦公司生产的一款深紫外线光刻系统，可以7纳米，是一款高效的双级浸润式光刻工具，专为在先进节点批量生产300毫米晶圆而设计，每小时可生产295片晶圆。

可以制造7纳米和5纳米的芯片TWINSCANNXT2000i是一款先进的光刻机，被广泛应用于芯片制造领域2000i光刻机采用了先进的曝光和显影技术，具备较高的分辨率和精度，实现对细微图形的刻画。

EUV光刻机是不能出口到中国的，在出口限制措施生效之后， DUV系列的一些先进型号，包括TWINSCAN NXT2000iNXT2050i这。