半导体工艺基本每个流程都需要进行图形转移，需要进行光刻，而且每一步光刻都是严格按照半导体制备的工艺先后顺序进行的。

为7纳米芯片生产线供应刻蚀机中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额中科院SP超分辨光刻机 提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国。

东宝是一家总部位于日本的电子测量设备和光刻机制造商，他们的光刻机广泛应用于半导体和显示器制造东宝的光刻机具有高分辨率和高稳定性的特点9Hitachi HighTech日立高科日立高科是一家总部位于日本的高科技公司。

如果华为不在麒麟 970 上使用 10nm 制程工艺，就无法和竞争对手抗衡所以华为想要生产 10nm 工艺芯片，只有找三星或者台积电帮忙#xF4B0光刻机是制约因素这个芯片的生产，最关键是需要光刻机光刻机所属的半导体加工业，基本都是被荷兰ASML。

根据查询大鱼号网显示区别如下1光刻机是制造芯片的核心装备，光刻厂是半导体制造厂2光刻机是通过光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。

Track是半导体制造中的一种设备，主要用于芯片的湿法处理Track通常由多个处理单元组成，包括清洗单元蚀刻单元涂胶单元等Track的主要作用是对芯片表面进行各种湿法处理，如去除污染物沉积化学品涂覆光刻胶等，以便后续。