1、是90纳米查询ABM公司官网得知，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备；2纳米还是构想或许在先进实验室有原理能实现它，市面上并无能够商用的“光刻机”目前全世界最先进的制程还在3nm， 2nm的技术预计 2025年会投入商用所以预估最快2024年2纳米光刻机才会正式问世。

2、光刻机最先进的是90纳米纳米科技现在已经包括纳米生物学纳米电子学纳米材料学纳米机械学纳米化学等学科从包括微电子等在内的微米科技到纳米科技，人类正越来越向微观世界深入，人们认识改造微观世界的水平提高到；俄罗斯的光刻机技术目前处于90纳米水平光刻机是半导体制造过程中的核心设备，用于将芯片上的图案转移到硅片上光刻机的精度，通常以纳米为单位进行衡量，决定了晶体管的尺寸，进而影响到芯片的性能俄罗斯在半导体技术领域的。

3、euv光刻机是采用135纳米极紫外光光源，为第五代光刻机，与第四代光刻机光源的193纳米深紫外光光源，技术上提升非常巨大，该光刻机可以说是全球尖端技术集大成者波兰这个国家不生产光刻机；是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息；3纳米根据查询百度百科信息显示，截止2023年10月18日最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，其能够制造3纳米的芯片，在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的HighNA极紫外光刻机；7纳米全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机，ASML更是步入5纳米的光刻机时代，在荷兰规定可以销售的光刻机中，能够支持7纳米工艺制程。

4、全世界最高精确度5纳米，中国精确度差别非常大；5纳米根据查询光明网显示，截止时间2023年10月2日，世界光刻机釆用finfet工艺，能做到5nm以下光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备。