1、时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微；台积电和三星的7nm5nm工艺，都是依赖ASML光刻机来进行生产据英特尔内部透露，他们也将拥有ASML下一代HighNA EUV最强光刻机，2025年就会开始用以制造芯片近年来，半导体制造行业的竞争愈演愈烈，但对于这个准入门槛极其。

2、尼康和佳能也是行业中突出的相机巨头，因为光刻胶和相机的工作原理是一样的但如果没有荷兰提供的光刻机，美国和韩国的很多芯片制造商也就凉了，因为光刻机在芯片制造过程中的作用非常明显，可以说是芯片制造过程中的核心。

3、造光刻机难的原因有1西方国家的技术封锁在光刻机领域，荷兰是最有发言权的，我国很早以前就跟他们取得联系，并且希望进行相关合作，若是双方进行合作的话，很容易就能解决技术问题，可是美国却总是从中作梗，要求荷兰；光刻机在微电子制造中起到关键的作用，它能够制造出微尺度的芯片和器件它在集成电路传感器显示器件光学器件等领域具有广泛应用光刻技术能够实现高精度高分辨率的图案转移，为微电子行业提供了核心的制造工艺光刻；中科院携手北京布鲁斯潘公司，在制造光刻机核心部件的机床领域取得突破，甚至这个领域超越美国华中 科技 大学研发成功高编程机床技术，美国想买都不卖给他芯片行业的仁人志士，都在发奋图强，从制造光刻机部件的机床，到制造；光刻机是一个非常复杂的系统，是多种精密技术的集合，几乎每个细分领域，需要行业顶级供应商携手合作来完成光靠一两家公司闭门造车，不可能完成光刻机的研发国内在光刻机核心组件和配套设施也涌现出了一批优秀企业，包括；其实理由也很简单，就一条，因为关键技术太难掌握造不出来，之前有过这么一句话，是评价光刻机的，他说，以我国目前的技术水平来说，我们造的出各种新式导弹，但是却造不出光刻机，所以说，光刻机的稀有程度比原子弹都高。

4、EUV光刻机可以看作是一种限制他国的技术手段，长期引进也不是一条长远的道路，为了国家在这方面高端技术有一席之地，科研人员仍然需要努力奋斗，在外国的封锁中走出属于自己的一条路；因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。