诸如光刻机等科技计划被迫取消九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致ASML如此强势的关键直到二十一世纪，中国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。

波兰不生产光刻机，生产光刻机的是荷兰全球唯一能制造高端euv光刻机的是荷兰阿斯麦尔公司，euv光刻机是采用135纳米极紫外光光源，为第五代光刻机，与第四代光刻机光源的193纳米深紫外光光源，技术上提升非常巨大，该。

光刻机的品牌根据采用不同技术路线可以归纳成如下几类高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造。

目前，国内有许多上市公司在纳米压印光刻技术领域有所布局，以下是一些主要的上市公司1 中电科电子装备集团有限公司这是国内最大的纳米压印光刻机制造商，其产品广泛应用于半导体制造领域2 上海新阳科技股份有限公司。

最后，值得一提的是，发展光刻技术所形成的新工艺和新工具体系的应用前景是美好的这些技术将在半导体产业中得到广泛应用，并推动半导体芯片产业和高新技术产业的进一步发展预计在接下来的几年中，光刻机最小纳米数仍将不。

芯片工艺制程就是指硅基芯片中删极的宽度，删极宽度=工艺制程的数值，其宽度越窄功耗越低而3纳米是其中的一个制程，一般来说14纳米以下的芯片只能用高端euv光刻机来制造，而在22纳米左右是高端和中端光刻机的分水岭。

都是用数字表示芯片等级4nm5nm6nm7nm等等，数字本身就可以区分等级了芯片等级从某个角度来说是光刻机等级的划分，比如14nm以下的基本都是euv光刻机做的，14nm以上是duv光刻机做的甚至i线光刻机等。

现在中芯可以做到28纳米，也是现在的主流机器，订单已经排期几年了，现在14纳米的也已经成功下线了，由于良品率太低，现在正在调试，明年肯定能批量生产了，然而这还不是我国最先进光刻，清华大学的双工台4nm光刻机早就完成。

3纳米根据查询百度百科信息显示，截止2023年10月18日最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，其能够制造3纳米的芯片，在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的HighNA极紫外光刻机。

另一方面，由于西方国家的技术封锁和制裁，俄罗斯在获取先进技术和设备方面面临困难，这在一定程度上限制了俄罗斯在半导体技术领域的进步速度尽管如此，俄罗斯在自主研发和技术创新方面仍在努力90纳米的光刻机技术虽然相较于。