国内芯片大厂都投入大量资源研发芯片难题，国内芯片14nm和28nm都在大规模量产，作为高端芯片，很多人认为只要引进EUV光刻机就能解决， 如果你知道ASML公司的EUV光刻机元器件超过10万件，来自36个国家1500多个企业，唯独没有一个。

简单来说，光刻机就是一种全球产业链的制造，比如当前的荷兰ASML，它能制造光刻机靠的是全球化的产业链，整台机器10万有余的零配件近9成靠的是全球进口其中包括了美国的光源，德国的物镜，瑞典的轴承，法国的阀件。

它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特显然，中科院研制成功的这。

这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展随着上海微电子的封装光刻机进入国产厂商生产线，对于提升国产芯片自给率，降低国外芯片进口依赖有了更大的帮助因为封装光刻机也是制造。

而对于光刻机，首先我们国家对于光刻机的技术还是很落后的，就算是国内技术含量最好恶毒光刻机也太能达到22nm，而与我们所研究出来的2nm芯片所要的光刻机根本不在一个档次了而目前我们想要研制出光刻机，并且我们国家。

1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺1972年，武汉无线电元件三厂编写光刻掩模版的制造1977年，我国最早的光刻机GK3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式。

光刻机极限是1纳米现有芯片制造的原材料是硅，也就是我们常说的硅芯片一块非常小的芯片实际上整合了数以亿计的晶体管，每个晶体可看作是一个可控的电子开关，晶体管由源极漏极和位于他们之间的栅极所组成，电流从。

而比亚迪要想重新进入半导体，并且一下子就开始研发7NM芯片，要想赶上台积电，短期内是不可能的事情况且，就算是比亚迪做晶圆代工，用最快的速度就赶上了中芯国际，研制出7NM工艺，比亚迪也没有高端的EUV光刻机用于生产。

华为早已展开了积极的自救，在大量储备芯片，分散芯片来源同时帮助国内产业链相关公司提升自身技术水平，增强供应的自主性 光刻机是我国半导体制造业最大的短板，国内的高校研究机构及企业已经在国家的支持下，开展了积极有效的工作，力争在。