1、光刻机的最新消息如下1上微中科院走ASML路线，全程规避美规采用1X千瓦60Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶2广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率超高重复频率；这么一台设备除了价格昂贵零件繁多造型庞大等，耗电能力同样不容小觑当前ASML最新一代EUV光刻机的三相配套电压为208伏，直流电压为384伏，额定功耗是100万瓦约是前几代设备的10倍；最后，在知乎上都是个人立场，至于asml公司，但凡多了解一点就知道它一直寻求与中国合作，川普上台前差点儿把euv光刻机运到中国去什么搜集情报，这种想象还真的搞成了敌矛盾至于本人，多少年前就说过光刻机就是一个工艺。

2、vivo没有光刻机光刻机是制造芯片的核心设备，通常由专业的芯片制造商拥有和使用作为一家手机制造商，vivo并不直接涉足芯片制造领域，而是与专业的芯片制造商合作，如高通联发科等，以获得最新的芯片技术和稳定的供应链；美国当然会担心华为被制裁后中国将开启自主研发，但是相比而言，美国更害怕不制裁华为的话，华为会踩在它们的肩膀上帮助中国获得5G通信时代的核心地位所以其实美国也是在冒险，它要赌美国 科技 界能在中国搞定先进光刻机技术之前率先实现5G；它采用了最新的技术，可以在不影响图案精度的前提下，缩短生产周期，提高生产效率同时，它还具有高精度高稳定性和高可靠性等优点，能够满足各种微型电子元件的生产需求以上内容参考百度百科纳米压印光刻机。

3、制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限最新消息显示，上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，即使这一技术的交付对比荷兰ASML公司全球最大的半导体设备制造商之一，光刻机制造领域全球领先有着近20年不足；可以的目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm，这个就是相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平，但是相比较目前的7nm着实有些不够看。

4、在这场对下一代EUV光刻设备的争夺中，三星电子也寻求获得最新的EUV设备李在_的欧洲商务之旅主要是为了确保获得下一代HighNAEUV光刻设备，以及目前正在生产的最新一代设备ASML今年只能生产50台EUV设备，交货期为一年到。