大家都了解，现阶段在芯片行业的有关技术上，我们国家就是卡在了那一台顶尖的光刻机设备上，欧美国家对于该设备的技术一直都是防备有加，现阶段都还没哪一个国家可以独自造出光刻机，表面上是由荷兰的ASML企业生产制造的。

所以我们需要更加高端的光刻机，现在我国有的应该是在14纳米左右这个光刻机不足以满足日常的使用，你现在所使用的天级1200，骁龙865，甚至说骁龙888，它基本都是5纳米6纳米7纳米这样一个程度的，所以我们还有很大的差距，我。

其实不然，中科院此次携手国内 科技 企业进军高端光刻机技术，其并不是“轻装上阵”，相反，中科院是“有备而来”在本世纪90年代，中科院在我国北方城市长春，设立了光学精密机械科研所，其主要研究的方向正是与如今光刻机。

目前全球领先的光刻机技术几乎都被荷兰ASML公司所垄断，随着市场需求的不断增加，也让荷兰ASML公司赚得是盆满钵满光刻机有钱也买不到 作为光刻机领域得分霸主企业，ASML公司的手中也掌握着很多先进的光刻机生产技术，其。

因此对于中科院我国大部分民众只知道“很厉害”，但对于中科院的科研能力却所知甚少，甚至现在 中科院下场开始主力研究我国被卡脖子的光刻机技术 时，还有一些网友提出质疑说中科院能行吗能不能行，我们用事实说话在这里我们。

光刻机制造瓶颈在克刻的精度要求，所以要以要求定精度，主要是机械制造上要严要，首先是制造的母机精度再谈的上制造精度，再就是制造的人才，精度一高装配就要用热胀冷缩的办法，不光是尺寸合格直线度平行度圆柱度都要严，要不装上去。

同样的，如果其他国家不出口光刻机和芯片给我们了，我们至少还有plan B只有这样一个国家的根基才不会动摇科学技术的发展始终离不开人2011年，当时在任的美国总统奥巴马曾问苹果的乔布斯，怎么才能将苹果的生产线迁回美国。

目前，国产刻蚀机已成功打入全球芯片先进制程产业链，但国内外光刻机的技术鸿沟仍然存在，国外领先光刻机技术已推进至5nm EUV极紫外节点，我国的量产光刻机还在一整代技术鸿沟对岸的60nm制程，22nm工艺离商业化落地还较。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的。

中国的高校和科研机构也在积极参与光刻机领域的研究和发展例如，清华大学北京大学等知名高校都设立了半导体相关的研究机构和实验室，为光刻机技术的研究和应用提供了强有力的支持中国在光刻机领域的发展虽然起步较晚。