光刻机的极限 其实光刻机极限已经快到了，因为硅这种材料的极限在1纳米左右，如果想要超越1nm，那就得换材料了，但是目前地球上已经发现的材料中，没有比硅更适合的了，所以末来十年都很难超越1nm工艺，除非科学家能发现。

1首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。

因为，类似光刻机这种复杂巨系统，要实现技术追赶甚至技术超越，我认为只有一个办法， 用当年做两弹一星的办法，完整的系统地进行全国大联合，全国大攻关，全国大协同 依靠地方豪赌这个办法行不通，这个力量够不上。

从理论上讲，量子芯片是一种可以绕过传统硅芯片制造的光刻机量子芯片将量子电路集成在基片上，通过量子碰撞技术处理和传输信息，而根本不需要光刻机尽管量子技术已经取得了一些成就，但在投入商业应用之前还有很长的路要走。