光刻机在印刷机的应用是通过激光来印刷这种极其微小精密而又产量极大的微型电路实际上光刻机需要在芯片生产的前后过程中都要用到，现在所说的光刻机，主要是指在最精密复杂的前段生产程序中用到的光刻机。

中国既然有了第1台90纳米的光科技，65纳米28纳米，那就是很快就能攻破的事在加之中国很多技术是先用于军事方面，所以我就在想中国肯定在军事方面已经拥有了65甚至28纳米的光刻机技术只是还没有向民用方面转用1华为。

1紫外光刻机是利用一定波长的紫外光，通过掩模版使特定区域的光透过，从而辐照到光刻胶表面进行曝光2红外线光刻机能够用于设计平面与复杂3d结构等工件，用以实现计算机成像，是实现3d切割加工的核心设备。

1工作原理如果把制造芯片比喻成盖房子，那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备，也是光刻完成以后最为重要的设备之一刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去。

光刻机是用光来制作一个图形的机器光刻机是芯片生产过程中重要的灵魂部分具体就是把想要的芯片，再通过设计师设计出规格之后用光学技术刻在晶圆上通过光刻胶印制的电路可以使阳文形式的电路，也可以是阴文形式的电路。

光刻机具有高精度高分辨率和高产能的特点，能够实现微米级别的图案制作在微电子制造中，光刻机是非常重要的设备，它对电子器件的性能和可靠性有着直接影响光刻机的作用 1图案转移光刻机使用光刻胶作为光敏材料。

相信大多数人都清楚，光刻机的用途是刻字光刻机是生产手机芯片的重要机器之一目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度光刻机80%以上的市场份额目前。

光刻机性能指标 光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式，光刻的分辨率受受光源衍射的。

当然不是，现在常说的光刻机主要用在芯片制造，这个名字只是俗称，学名是掩膜曝光机，原理类似照片冲洗，把掩膜上的电路图形通过光线曝光印制在硅片上，形成微电路光刻机的生产集合了全世界最尖端的黑科技，其中很大一部分。