通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易根据曝光方式不同，光刻可分为接触式接近式和投影式根据光刻面数的不同，有单面对准光刻和双面对准光刻根据光刻胶类型不同，有薄胶光刻和厚胶光刻而光刻。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度。

需要注意的是，不同的Duv光刻机的生产能力可能不同，而且制程技术和材料等因素也会影响最小特征尺寸的大小DUV光刻机DeepUltravioletLithography，深紫外光刻机是一种半导体制造中常用的设备，主要用于制造集成电路中微小的。

因为中芯国际急需7nm紫外光刻机，如果说要进口光刻机的话，就必须要从荷兰进口，主要是因为荷兰的ASML在光刻机制造当中有着更加顶尖的技术，并且常年以来在光刻机领域当中垄断市场河南的ASML在市场的占有率当中就已经是。

这里涉及到一种ldquo卡脖子rdquo技术mdashmdash光刻机下面讨论一下光刻机市场供不应求的原因EUV光刻又叫做极紫外光刻，生产技术难度大，经济成本高，而高性能的芯片由需要使用EUV光刻机进行生产有数据显示。

而我们人类的头发丝直径大约是50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径15000的线条前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了。

这家公司可以说是世界上最顶尖的光刻机生产商，而且即便是世界第二也已经被远远甩在了后面， 现在其最先进的EUV极紫外光光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片了，单台光刻机的售价已经超过了一亿美元，而且还不是现货 相比之下，中。

今年7月，彭博社就报道称，美国已向荷兰政府施压，要ASML扩大对中国的禁售范围，即在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机EUV基础上，将禁售范围进一步扩大到上一代技术深紫外线光刻机DUV的出口ASML占全球光刻。