通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易根据曝光方式不同，光刻可分为接触式接近式和投影式根据光刻面数的不同，有单面对准光刻和双面对准光刻根据光刻胶类型不同，有...

光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形就像你不能用拖把书写痕迹粗大...