一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA80010W光刻机；国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

中国现在能做14nm芯片14nm并不是停在实验室里面的研发，也不是投产，而是规模量产此外90nm光刻机5nm刻蚀机12英寸大硅片国产CPU5G芯片等也实现突破此次14nm虽然量产，但其实与国际水平还有着较大的差距。

中国90nm光刻机是真的吗

1、值得注意的是，SMEE是一家来自中国的光刻机制造商，该公司成立于2002年2012年，SMEE公司生产的SSB500系列光刻机首次实现海外销售，2018年，SMEE 90nm光刻机项目通过正式验收就在近日，SMEE向昆山同兴达交付了2台光刻机。

2、一如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3。

3、国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程，两者之间的差距相当。

4、上海微电子的90纳米光刻机，通过验收并且量产彻底改变了国产光刻机完全依赖进口的需求这也是我国首台完全自主知识产权的产品掌握光刻技术可以满足我国军用需求不仅可以配备在北斗卫星导航系统上，也可以使用国产战斗机上面。

5、我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法。

中国90nm光刻机能生产什么?

当前，中国也有了自己制造的光刻机，但是和国外龙头技术水平差距很大上海微电子装备股份有限公司SMEE通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程国产光刻机正向下一个技术节点寻求。

90nm的工艺如果是我们能够使用的最好技术的话，在有限资源的基础上克服困难也会有一个能够接受的结果至于目前貌似拦路虎的芯片问题，以中国举国之力，必将成为我们这个民族前进道路上的一个路标要看是90纳米制程还是90纳米。