上海微电子 上海微电子目前已经量产最先进的SSA60020系列光刻机，依旧采用的是193nmArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额而根据国内官方媒体；光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版。

光刻机品牌主要有ASML，尼康，佳能，欧泰克，上海微电子装备，SUSS，ABM， Inc；年产150台设备生产线和研发用的低端光刻机为接近接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上中国低端光刻机年产量150台设备主要有德国SUSS美国MYCRONXQ4006以及中国品牌光刻机lithography又名掩模对准曝光机。

suss光刻机MA6

光刻机是采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上的设备光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备光刻机一般根据操作的简便性分为三种。

主要对比介绍 SUSS紫外光刻机的四种曝光模式 ，以2 um线宽四种曝光作业的效果为例1#160真空接触vac 在掩膜版和基片中间抽气，形成微真空环境，使二者更加好的贴合2#160硬接触hard 是将基片通过。

你们要光刻机是用于科研，小规模生产的SUSS，MYCRO NXQ的，或者ABM的都挺好的，SUSS光刻机很好，只是价格太贵，我认识的一些物理实验室用MYCRO NXQ的。

suss光刻机介绍

目前全球能够制造和维护需要高度的光学和电子工业基础技术的厂家，全世界只有少数厂家掌握光刻机技术例如ASML尼康佳能欧泰克上海微电子装备SUSSABM，Inc等因此，光刻机的价格昂贵，通常在3千万到5亿美元中国。