1、在今天的半导体制造业中，计算机中央处理器无疑是受关注程度最高的领域，而这个领域中众所周知的两大巨头，其所遵循的处理器架构均为x86，而另外一家号称信息产业的蓝色巨人的IBM，也拥有强大的处理器设计与制造能力，它们最先发明了应变硅；美国掌握光刻机核心技术，领先中国大约二十年。

2、如果没有光刻机，即使能设计出最为先进的芯片，也无法进行制造和封装等后续的操作这也就是为什么华为海思研发的基于5nm工艺的麒麟9000芯片，在国际上都享有盛名，但没有高端EUV光刻机的支持，就算拿到世界第一，也无用武；而在70年代初，IBM宣布在大型计算机中使用半导体存储器取代磁芯，半导体中重要的DRAM芯片成为潜力巨大的市场，美国也开始拒绝向日本提供IC集成电路，并且强迫日本实现IC输入的完全自由化此时，日本政府不仅旧有的半导体量产面临。

3、与干式光刻技术相对，林本坚的技术方案被称为浸没式光刻技术经过水的折射，光线波长可以由193nm变为132nm 时间再往回推15年1987年，林本坚就职于IBM，那时他就有了浸没式光刻技术的想法2002年芯片制程卡在65nm之际，林本坚看到了。

4、1荷兰占据光刻机市场的龙头老大 荷兰的ASML阿斯麦，是全球有名的光刻机制造商，目前在高端市场上一家独大，它的客户主要是IBMTSMC和Intel等芯片巨头，已经占世界市场份额的90%，而光刻机市场第二第三的尼康和佳能被远远甩在后；这就是纳米技术做好电路的芯片通常是在还没有切割的晶圆上，像一个烧饼，直径在400mm以下有不同规格，然后切割成小块，在进行封装，封装现在国内才开始发展，在国际上以美国IBM，日本NECSony三菱富士通等等处于霸主。

5、技术前景除了致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC， IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV，用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验同时。

6、2021年5月，IBM与英特尔和台积电一起预测了快速解决当前芯片短缺的悲观前景“我们将不得不考虑重用延长某些类型计算技术的使用寿命，以及加快对这些 “制造工厂”的投资，以便能够尽快获得更多的在线容量，” IBM说吉姆怀特。