1、这就是卡住中国的那个所谓的光刻机，不错，是一种复杂而又混乱的高 科技 技术的产物 先简单的了解一下光刻机的主要作用光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印。

2、那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢目前在制造光刻机领域中，荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%除了荷兰以外，日本和中国也可以制造出光刻机日本代表的企业是佳能和尼康，中国的。

3、有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破 中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

4、华为曝光了一款神秘的自研光刻机，这款华为自研光刻机采用了最先进的技术，可实现更精细的制程工艺，并且具有高精度高稳定性和高效率等优点它将为中国的芯片产业带来革命性的突破，让中国芯片制造不再受制于人这款光。

5、光刻机的技术难度在于“技术封锁”，一台顶级的光刻机关键设备来自于西方发达国家，美国的光栅德国的镜头瑞典的轴承法国的阀件等，这些顶级零件对中国是禁运的所以，ASML曾说“即便给你们全套图纸，你们也造不出来”。

6、我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。

7、我国造不出光刻机，有以下三个原因1因为我们的技术有限为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展2事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况。