1、时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微电；我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光；我们要知道制造芯片需要使用光刻机但是纵观全球芯片公司，有这个技术和设备的只有三星公司了它既可以自主研发又可以制造芯片，基本上垄断了行业芯片但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后；电视机智能家电功能手机智能机械设备等，都需要用到精度不高芯片这些行业的巨量需求，要求国产90nm光刻机，必须存在唯有这样，才能更好的满足，我国低端芯片用户的需求，不用跑到外国花费更多的钱去进口二对于；光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备集团股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。

2、中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努；第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标这是荷兰ASML实现的而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的其中，制造光源的设备来自美国公司镜片，则是来源于德国的蔡司公司等这也是全球技术的。

3、中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首。