随着ASML光刻机的运抵，国内光刻机企业也面临着更大的压力和竞争目前，国内光刻机企业数量较多，但主要研发领域仍集中在相对成熟的65nm45nm技术产品上，且研发能力和技术水平与ASML等国际领先企业有较大差距ASML光刻机；因为中国需要光刻机来制造CPU，而CPU的制造离不开光刻机我国在光刻机真正发展起来是在 2002 年上海微电子装备成立以后，目前性能最好的是 90nm 光刻机，与国外还存在着很大的差距。

中国有光刻机吗2018

1、28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

2、570台根据查询2023年中国光刻机市场研究报告得知，2021年国内光刻机产量为75台，2022年中国光刻机的产量为95台，2023年中国从全球最大的光刻机供应商荷兰ASML公司购买了400台最新的光刻机，所以截止至2023年中国一共有。

3、这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展随着上海微电子的封装光刻机进入国产厂商生产线，对于提升国产芯片自给率，降低国外芯片进口依赖有了更大的帮助因为封装光刻机也是制造。

中国有了光刻机吗?

全世界只有中国日本荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度目前，荷兰ASML一家公司。

正在进行其他各系列产品的研发制作工作生产线和研发用的低端光刻机为接近接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上主要有德国SUSS美国MYCRONXQ4006以及中国品牌光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全。

华为有光刻机华为作为中国科技巨头，不仅在手机通信等领域取得了不俗的成就，还在芯片研发方面默默发力华为曝光了一款神秘的自研光刻机，这款华为自研光刻机采用了最先进的技术，可实现更精细的制程工艺，并且具有高精度。

1978年，1445所在GK3的基础上开发了GK4，但还是没有摆脱接触式光刻机1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平1981年，中国科学院半导体所研制成功JK1型半自动接近。