日本的佳能尼康和中国上海微电子仅能制造DUV光刻机荷兰ASML公司的EUV光刻机采用的是美国研发提供的135nm极紫外光源为工作波长的投影光刻技术，中国DUV光刻机使用的是波长193nm深紫外光源技术。

而中低端duv光刻机可以进口及自己生产最高端的光刻机现在不能进口了，主要是美国不让荷兰出口光刻机给中国最先造光刻机的是日本的尼康，就是很多专业摄影师用的相机机牌子，后来被美国把他们玩残了。

公开资料显示，DUV光刻机与EUV光刻机的主要区别在于光源的波长，这决定了芯片的制程DUV光刻机目前尚无法制造出7纳米及以下制程的芯片，但足以用于制造需求量更大的成熟制程芯片根据ASML发布的2021财年财报，中国大陆已是。

在阿斯麦2019年卖出的229台光刻机中，有26台是当今最高端的EUV极紫外线光刻机而在EUV光刻市场，阿斯麦是唯一的玩家 EUV光刻机采用135nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具也就是说，就算DUV深紫外线光刻机。

国内光刻机排名第一公司是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的。

DUV光刻机可以用来生产12纳米的芯片，最多可以生产7纳米的芯片但是EUV光刻机可以生产5纳米芯片，甚至可以用来生产3纳米工艺的芯片因此，ASML公司卖给中国光刻机，首先是为了利益2占领更多的市场 ASML公司卖给中国光刻。

1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式。

中国是ASML所产DUV光刻机的重要市场之一根据ASML发布的2021财年财报，中国大陆已是ASML第三大市场，约占其2021年全球营业额的147%，2021年中国大陆的出货量占其全球出货量的16%目前为止，ASML受美国新出口管制的影响。

荷兰芯片新规影响的duv型号包括光学分辨率光源技术应用领域等等1光学分辨率 荷兰芯片新规可能会影响DUV光刻机的光学分辨率由于荷兰芯片法规对光刻胶和光学元件的限制，DUV光刻机的光学分辨率可能会受到一定的影响这。

光刻机的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，在某种程度上来说，光刻工艺的决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能与功耗，越高端的芯片，所需要的光刻工艺也越先进 “工欲善其事，必先利其器”，光刻机就是芯片。