1、2发光原理不同 duv光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米euv激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为135纳米3光路系统不同 duv主要利用光的折射...

日本的佳能尼康和中国上海微电子仅能制造DUV光刻机荷兰ASML公司的EUV光刻机采用的是美国研发提供的135nm极紫外光源为工作波长的投影光刻技术，中国DUV光刻机使用的...