1965年，我国的第1台光刻机是从外国进口的，直到现在为止全国只有两个国家拥有光刻机的高科技手段特别是荷兰的光刻机技术在全球是遥遥领先的，但由于荷兰受到美国的影响，并不愿意把光刻机的相关技术和设备出口给中国。

1现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的。

这意味着，中国半导体产业向着更加自主可控的方向迈出了重要的一步本文将从ASML光刻机抵达中国的影响半导体产业现状国内光刻机企业的现状以及中国半导体产业的未来展望等多个方面进行分析随着ASML光刻机的运抵，国内光刻。

中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。

比如上海微电子生产的光刻机中的光栅元件等还是来自于进口，并没有实现国产化，依旧有着被人卡脖子的风险由于早些年国内对光刻机这块并不算重视，导致中国光刻机的起步晚资金投入少人才也相对不足，这些都是需要解决。

所以，以前中国的EUV光刻技术不是没有实现，而是技术水平不达标，用于批量生产光刻机效率和良率无法和ASML的产品竞争还有视场小的问题，制造不了大芯片，略过不提 但是这样凑合出来的只具有较低生产效率和良率的光刻机能解决华为没有。

还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为。