刻机是用来制造芯片的光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备#决定芯片精密尺寸光刻机决定了芯片的精密尺寸。

五纳米芯片不需要光刻机的说法并不完全准确虽然光刻机在制造微电子器件中起着至关重要的作用，但五纳米芯片的制造过程中仍然需要使用光刻机或其他类似的设备光刻机是制造微电子器件的关键工具之一，它可以将集成电路图案。

因为中国需要光刻机来制造CPU，而CPU的制造离不开光刻机我国在光刻机真正发展起来是在 2002 年上海微电子装备成立以后，目前性能最好的是 90nm 光刻机，与国外还存在着很大的差距。

在硅基芯片上摩尔定律已经接近了天花板，人们不断在寻找新的材料来突破碳基芯片遇到的这个瓶颈，目前最先进的碳纳米管制造的就是非常理想的晶体管材料，基于碳纳米管制造的碳基芯片并不需要光刻机硅基芯片和碳基芯片的生产。

1光刻机Mask Aligner又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System2因为芯片远比这小得多，动不动就是nm的，这些最小也就是μm级别，那么到底是什么。

可以用其它制作工艺来替代，比如用刻蚀法就可以了，如果制作超大规模集成芯片的话，为了在单位面积上集成更多的晶体管，就需要更为先进的光刻技术了，这时候就需要光刻机了经过对硅晶片进行一系列处理后，处理的工序可能是。

需要溶解多余的涂层光刻胶已经固化，必须知道不需要的涂层也已经消失的痕迹进入蚀刻，溶解不需的涂层，留下光刻，形成凹槽注入离子元素，改变导电特性芯片的步骤中，缺乏光刻机包括EDA相关的设计软件日本美国的光刻。

需要光刻机是芯片制造的核心设备之一，用于生产芯片的光刻机，用于封装的光刻机用于LED制造领域的投影光刻机在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种。

不用光刻机制造5nm芯片的方法包括采用纳米压印设备使用中芯国际的N+1代工艺用碳纳米管来代替硅晶管用电子束光刻技术用量子芯片1采用纳米压印设备利用纳米压印设备将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，制造出。