之所以是荷兰的阿斯麦尔能够做到这件事，而不是日本，德国，美国的公司，这个是有 历史 原因的早期的光刻机出现在60到70年代，那时候的制程工艺远没有今天这么强大，光刻机的技术要求也相对较低，大多数搞半导体的公司；1947年，美国ATT贝尔研究所发明了点接触晶体管1951年，贝尔研究所发明了结接触晶体管，并实现成功实现商业试用1953年，索尼创始人之一盛田绍夫从西方电器公司买到晶体管专利技术1955年，索尼研制出全球第一台晶体管收音机。

光刻机的历史和使用

其中相当一部分都是给光科技研发使用的二战之后，我们的新中国创立的时候处于一穷二白的境地欧美等国家则通过二战掠夺的财富，大力发展科技光刻机就是在那个历史时期开始研发和制造的而我国由于晚了几十年的时间，才。

就连芯片领域也将直接进入新时代，光刻机将直接从稀有而不可或缺的物件，变成被降维重创被无情淘汰的东西就像那些曾经鲜活却被埋葬在 历史 长河中的大佬们一样 有些人可能不明白事实上，与传统芯片相比，光量子芯片是全新的芯片。

流片生产需要Foundry代工厂，这里面需要一个至关重要的东西叫做“光刻机”很不幸，光刻机都是欧美公司的，我们一个都没有，造不出来封装测试倒是还好，我们国内有长电科技华天科技，还可以用所以你看一看，生产。

报告了一种新型粒子加速器光源ldquo稳态微聚束rdquoSteadystate microbunching，SSMB的首个原理验证实验这次研究成果究竟有何重要作用简而言之就是 有望解决光刻机自主研发难题 那又有人问，什么是光刻机光。

光刻机的发展史

科益虹源攻克的ArF浸没式激光器技术，可以把国产光刻机一举推向28nm以下的先进制程这是中国半导体产业发展的 历史 性节点采用ArF光源的浸没式DUV光刻机是目前全球使用最广泛的光刻机，可以完成45nm10nm制程的芯片制造。

另外，世界上只有ASML可以产生EUV光刻机，并且数量非常稀少，并且将由米国控制，因此，今天光刻机的短缺仍然是国内芯片面临的主要问题，尽管华为和中科院以及其他技术公司或机构已开始全面部署，但仍需要一定的时间，突破，但是。

中国 科技 发展公司也数次求之不得光刻技术是芯片制造更为重要的机器设备之一现阶段，ASML垄断掉了全球的高端光刻机我国长期以来都想把握光刻技术技术性，可是上海微电子历经2017年的勤奋，才造出来90nm的光刻技术。