光刻机是是制造芯片的核心装备光刻机也可以称为掩模对准曝光机曝光系统或光刻系统等它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影。

光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率。

光刻机的基本原理是利用光源和光学系统将光束聚焦到特定的图案上，并通过光掩膜或掩模板上的图案形成光斑然后，光斑会通过投影或接触方式传输并照射到待加工的材料表面照射后，材料上的感光剂或光敏剂会发生化学或物理反应。