1、光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位先进光刻机荷兰ASML一家独大，在中国的研发也比较少上海和深圳有，但偏重软件方向。

2、技术一直处于垄断地位一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为。

3、根据查询爱采购网显示，光刻胶和光刻机区别1原理不同，光刻胶是一种化学物质，在光照下发生化学反应，并在显影过程中将发生反应的部分去掉，形成图案而光刻机则是一种机械设备，它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并。

4、光刻机是法国人Nicephoreniepce尼埃普斯发明的，起初是Nicephoreniepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其。

5、这么说吧，全球最先进的光刻机和最酷毙的制程工艺，基本都用来伺候个位数的手机SoC芯片了，牛掰如英特尔，目前最先进的芯片制程工艺也就是10nm相当于台积电深紫外DUV光刻机下的7nm工艺即使在台积电这里，代工的大部。

6、光刻机是啥我们知道在现在的科技产物中，芯片是最关键也是最神奇的物品之一，明明很小，却是很多产品的核心，我们老百姓的生活中也越来越来离不开芯片了，大家最熟悉的就是手机了，目前我国绝大部分手机采用的芯片都是从。

7、所以，以前中国的EUV光刻技术不是没有实现，而是技术水平不达标，用于批量生产光刻机效率和良率无法和ASML的产品竞争还有视场小的问题，制造不了大芯片，略过不提 但是这样凑合出来的只具有较低生产效率和良率的光刻机能解决华为没有。