1、光刻机cd15nm是指一个硬件的指标，现在芯片都是7nm工艺。

2、Focus MC作为光刻机监控焦距监控d关键尺寸控片Critical Dimension MC用于光刻区关键尺寸稳定性的监控e光刻胶厚度控片PhotoResist Thickness MC光刻胶厚度测量f光刻缺陷控片PDM，Photo Defect Monitor光刻胶缺陷。

3、LDWD1，LDWD1 采用多台 LDW X6 并联自动化生产，可以实现多个机台同时独立工作，整个自动线系统包括数个独立光刻机台和一个公用的机械传送装置，系统通过读码扫描生产信息进行参数调取，可以实时监测各个机台的运作情况并反馈到客户。

4、1962年推出的超微距尼克尔105mm f28镜头作为投影镜头的模板应用于尼康IC光刻机与扫描仪，目前此镜头的分辨率被誉为世界最高级别此外，用于最新单反相机的尼克尔镜头还采用了一系列尼康独有的先进技术，这些技术均源自IC光刻机与扫描仪。

5、光刻机 尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球光刻机作为整个集成电路制造最关键的设备，其设备的性能。

6、成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景1光刻机用于大学研发实验室设备2工厂用于做空空导弹跟踪器发光二极管传感器手机芯片霍尔元件 A发光二极管用于在十字。

7、尼康D7100是普通的单反，性能不错如果还是专业的摄影爱好者，主要用于旅游拍摄的话，18105足够了至于以后准备向专业方向发展，到那时再考虑配其它高级镜头，但18105在三五年内是足够用的了。